真空めっき
イオン工学的表面処理技術「スパッタリング」
2019.06.24 めっきめっきの知識真空めっき素材表面処理鉄
スパッタリング 低圧気体放電の際、原子、イオン、分子などの高エネルギー粒子が電極に衝突して電極構成原子をたたき出す現象をスパッタリングと呼び、一般に基板に衝突させる粒子は正イオンが利用されます。 スパッタリング現象は、物 …
イオン工学的表面処理技術「真空蒸着」
2019.06.10 めっきめっきの知識真空めっき素材表面処理鉄
真空蒸着 高真空中で金属、合金、または化合物を蒸発させ、基板表面上に凝固、堆積させる方法を真空蒸着法と言います。 この方法では電気的に不導体である紙・布・ガラス・プラスチックなどの上にも金属の蒸着ができ、光学的に優れた反 …
イオン工学的表面処理技術「イオンプレーティング・蒸着法・スパッタリング（PVD）」
2019.05.27 めっきめっきの知識真空めっき素材表面処理鉄
イオン工学的コーティング（PVD） 前回は、気相めっき法（CVD）について書きましたが、今回は、イオンプレーティング・蒸着法・スパッタリングなどのイオン工学的コーティング、“Physical Vapor Depositi …
気相めっき（CVD）
2019.05.20 めっきめっきの知識真空めっき素材表面処理鉄
気相めっき法（CVD） 1年ほど前に、「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について、書いたことがありますが、今回は、気相めっき法、“Chemical Vapor Deposition” 略して、CVDについ …
