か行
化学蒸着（かがくじょうちゃく）
2019.01.07 か
気相化学反応によって、基板上に膜を形成させる方法。略称 CVD。 「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について詳しくはこちら 「気相めっき(CVD)」について詳しくはこちら
化学めっき法（かがくめっきほう）
2019.01.07 か
金属又は非金属表面に金属を化学的に還元析出させる法。 《参考》置換法、化学還元法、熱分解法とがあり、置換法は浸せきめっきと接触めっきとに、また、化学還元法は自己触媒めっきと非触媒めっきとに分けられる。
拡散処理（かくさんしょり）
2019.01.07 か
(a)下地表面に別の金属又は非金属を拡散させて表面層を作り出す方法。 (b)電気めっきでは皮膜及び素地金属、又は二つ以上の皮膜間で合金化若しくは金属間化合物を形成するための熱処理。
