気相化学反応によって、基板上に膜を形成させる方法。略称 CVD。
「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について詳しくはこちら
「気相めっき(CVD)」について詳しくはこちら
この記事の著者は
株式会社 小池テクノ 代表取締役社長
大橋 一友
毒物劇物取扱責任者
水質関係第二種公害防止管理者
特定化学物質及び四アルキル鉛等作業主任者
化学物質管理者
特別管理産業廃棄物管理責任者
化学蒸着（かがくじょうちゃく）
