真空中で金属を加熱すると、金属が蒸発する。

その蒸発分子を、蒸気温度より低温の基材に付着させると、表面で蒸気が凝縮し、薄膜を形成する。

この薄膜はきわめて薄く、通常0.05~0.1μm程度である。表面の光沢は、基材の粗さや蒸着時の雰囲気で異なる。

そのため、アンダーコート材をあらかじめ塗布して表面を平滑にし、かつ基材からの放出ガスを抑制して蒸着時の圧力を低く保つ。

また蒸着膜は耐摩耗性に欠けるので、トップコート剤を塗布して保護膜とする。アンダーコート剤やトップコート剤を着色し、カラーメタライジングにすることも容易である。　=真空蒸着・真空めっき

→PVD・ドライプレーティング

イオン工学的表面処理技術「真空蒸着」

イオン工学的表面処理技術「イオンプレーティング・蒸着法・スパッタリング（PVD）」

真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点

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