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化学蒸着(かがくじょうちゃく)
気相化学反応によって、基板上に膜を形成させる方法。略称 CVD。
「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について詳しくはこちら
「気相めっき(CVD)」について詳しくはこちら
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