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CVD（しーぶいでぃー）
英】〖chemical vapor deposition〗→化学気相成長
半導体・絶縁体・金属などをガスにして、加熱した基板上で化学反応により堆積させ、薄膜を形成する技術。化学的気相成長法。化学蒸着法。
「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について詳しくはこちら
「気相めっき(CVD)」について詳しくはこちら
この記事の著者は
株式会社 小池テクノ 代表取締役社長
大橋 一友
毒物劇物取扱責任者
水質関係第二種公害防止管理者
特定化学物質及び四アルキル鉛等作業主任者
化学物質管理者
特別管理産業廃棄物管理責任者
危険物取扱者乙種4類
