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物理蒸着(ぶつりじょうちゃく)
高温加熱、スパッタリングなどの物理的方法で物質を蒸発し、基板に凝縮させ、薄膜を形成する方法。略称 PVD。
《参考》真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどの総称。
高温加熱、スパッタリングなどの物理的方法で物質を蒸発し、基板に凝縮させ、薄膜を形成する方法。略称 PVD。
《参考》真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなどの総称。
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