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プラズマCVD（ぷらずましーぶいでぃー）
プラズマCVD（plasma CVD, plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD）は、プラズマを援用する型式の化学気相成長(CVD)の一種である。
さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつである。
化学反応を活性化させるため、高周波などを印加することで原料ガスをプラズマ化させるのが特徴である。
半導体素子の製造などに広く用いられる。
「真空めっき(PVD・CVD)の概要と利点・欠点」について詳しくはこちら
「気相めっき(CVD)」について詳しくはこちら
この記事の著者は
株式会社 小池テクノ 代表取締役社長
大橋 一友
毒物劇物取扱責任者
水質関係第二種公害防止管理者
特定化学物質及び四アルキル鉛等作業主任者
化学物質管理者
特別管理産業廃棄物管理責任者
