加工設備の一例

概要と代表的な用途例

反応容器内を真空にして、金属や金属酸化物、窒化物、炭化物などをガス化あるいはイオン化し
て品物の表面に蒸着させるめっき技術です。
PVD(真空蒸着やスパッタリング、イオンプレーティングなど)、CVDなど多様な手法が機能や装
飾用途で活用されています。
ハーフミラーや導電性ITO膜、DLCなどの超硬質皮膜などを付与できます。
半導体製造には不可欠な技術でもあります。

主な利点・欠点

利点:
大半の金属、非金属素材に処理が可能です。
金属単体だけでなく、金属の化合物薄膜も作成できるので、耐摩耗性に優れた装飾皮膜から、金
型や工具類の超硬質コーティングまで、広い分野で利用されています。

欠点:
電気めっきに比較して量産性が低く、高コストとなってしまいます。
装飾用途の場合、皮膜の種類によってはトップコートが必要になります。